Fujio Mitarai ซีอีโอ Canon เปิดเผยว่าเครื่องจักรสำหรับใช้ในการผลิตชิป ด้วยเทคโนโลยี Nano-imprint ของบริษัท จะมีราคาถูกกว่าเครื่องจักรเทคโนโลยี EUV (extreme ultraviolet lithography) ของ ASML ในระดับเปอร์เซนต์เลขหลักเดียว อย่างไรก็ตาม Canon ยังไม่เปิดเผยราคาเครื่องจักรนี้อย่างเป็นทางการ
การทำงานของเครื่องจักรแบบ Nano-imprint นั้น ใช้วิธีฉายแพตเทิร์นลงที่แผ่นเวเฟอร์โดยตรง ซึ่งแตกต่างจากวิธีการของ EUV โดยเทคโนโลยีนี้ Canon พัฒนาร่วมกับ Dai Nippon Printing และ Kioxia Holdings มาเกือบ 10 ปีแล้ว
คาดว่าเครื่องจักรของ Canon จะเป็นทางเลือกสำหรับโรงงานเซมิคอนดักเตอร์ขนาดกลางถึงเล็ก เนื่องจากช่วยทำให้ต้นทุนการผลิตชิปความละเอียดสูงนั้นลดลง จากที่ผ่านเทคโนโลยีนี้เข้าถึงได้เฉพาะโรงงานเซมิคอนดักเตอร์รายใหญ่ที่มีทุนหนาเท่านั้น ซีอีโอ Mitarai ก็มองว่า Nano-imprint จะไม่ถึงกับไปมาแทนที่ EUV แต่เปิดโอกาสให้โรงงานชิปขนาดกลาง-เล็กเข้าถึงเครื่องมือใหม่สำหรับการผลิตได้
ที่มา: Japan Times
Topics:
Canon
Semiconductor
อ่านต่อ...
การทำงานของเครื่องจักรแบบ Nano-imprint นั้น ใช้วิธีฉายแพตเทิร์นลงที่แผ่นเวเฟอร์โดยตรง ซึ่งแตกต่างจากวิธีการของ EUV โดยเทคโนโลยีนี้ Canon พัฒนาร่วมกับ Dai Nippon Printing และ Kioxia Holdings มาเกือบ 10 ปีแล้ว
คาดว่าเครื่องจักรของ Canon จะเป็นทางเลือกสำหรับโรงงานเซมิคอนดักเตอร์ขนาดกลางถึงเล็ก เนื่องจากช่วยทำให้ต้นทุนการผลิตชิปความละเอียดสูงนั้นลดลง จากที่ผ่านเทคโนโลยีนี้เข้าถึงได้เฉพาะโรงงานเซมิคอนดักเตอร์รายใหญ่ที่มีทุนหนาเท่านั้น ซีอีโอ Mitarai ก็มองว่า Nano-imprint จะไม่ถึงกับไปมาแทนที่ EUV แต่เปิดโอกาสให้โรงงานชิปขนาดกลาง-เล็กเข้าถึงเครื่องมือใหม่สำหรับการผลิตได้
ที่มา: Japan Times
Topics:
Canon
Semiconductor
อ่านต่อ...
