ข่าว ASML โชว์ผลทดสอบเครื่อง EUV High-NA ทำวงจรขนาด 8nm สำเร็จ เล็กที่สุดที่เคยมีมา

  • ผู้เริ่มหัวข้อ ผู้เริ่มหัวข้อNews 
  • วันที่เริ่มต้น วันที่เริ่มต้น
กรุณาปิด โปรแกรมบล๊อกโฆษณา เพราะเราอยู่ได้ด้วยโฆษณาที่ท่านเห็น
Please close the adblock program. Because we can live with the ads you see


News 

Moderator
สมาชิกทีมงาน
Moderator
Verify member
ASML โชว์ประสิทธิภาพของเครื่องผลิตชิปตระกูล EUV High-NA ว่าสามารถทำลายวงจรระดับ 8nm ได้สำเร็จ หลังจากเมื่อเดือนเมษายนเคยสาธิตลายวงจรระดับ 10nm ด้วยเครื่อง High NA เช่นกัน

เครื่องผลิตชิป EUV เดิมนั้นสามารถวาดลายวงจรที่ระดับเล็กสุด (critical dimension - CD) ได้ที่ระดับ 13.5nm หากเครื่อง High NA สามารถทำได้ที่ 8nm โดยที่ยังมีความเสถียรพอใช้งานผลิตจริง ก็จะสร้างความได้เปรียบให้กับผู้ผลิตที่มีเครื่อง High-NA ในมืออย่างมาก

ตัวเลขชื่อเทคโนโลยีการผลิตชิปที่เรามักได้ยินกันว่า 5nm หรือ 3nm นั้นแยกออกจากขนาดลายวงจรจริงๆ บนแผ่นซิลิกอนมาหลายปีแล้ว เช่นทุกวันนี้เทคโนโลยี 3nm นั้นอาจจะมีระยะห่างระหว่างเส้นวงจรที่ 24nm โดยโรงงานผู้ผลิตชิปมักตั้งชื่อสายการผลิตใหม่เมื่อประสิทธิภาพชิปที่ได้ต่างจากของเดิมเพียงพอ ถือเป็นการตัดรุ่นสินค้า และชื่อเทคโนโลยีที่ฟังดูคล้ายกันจากแต่ละบริษัทก็อาจจะมีขนาดจริงบนชิปต่างกันมาก

นอกจากความสำเร็จในการย่อขนาดลายวงจรแล้ว ASML ยังนำเสนอแผนการหลังปี 2033 ว่ามีแนวทางพัฒนาเทคโนโลยี Hyper-NA ต่อไป แต่สายการผลิตเครื่อง EUV ดั้งเดิมก็ยังมีแผนพัฒนาต่อไปเรื่อยๆ

ที่มา - Tom's Hardware

dc935b4ade517643b9f7922ba56252d9.jpg


Topics:
ASML
Semiconductor

อ่านต่อ...
 

ไฟล์แนบ

  • dc935b4ade517643b9f7922ba56252d9.jpg
    dc935b4ade517643b9f7922ba56252d9.jpg
    1.6 MB · จำนวนการดู: 25

กรุณาปิด โปรแกรมบล๊อกโฆษณา เพราะเราอยู่ได้ด้วยโฆษณาที่ท่านเห็น
Please close the adblock program. Because we can live with the ads you see
กลับ
ยอดนิยม ด้านล่าง